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微纳米压印光刻工艺及装备

成果编号
27939
完成单位
西安交通大学
完成时间
2020年
成熟程度
小批量生产阶段
价格
面议
服务产业领域
装备制造
单位类别
985系统院所、211系统院所
关注
科技计划 成果形式
新技术、新装备
合作方式 参加活动
技术开发、技术咨询
专利情况
未申请专利

成果简介

综合介绍
微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。
创新要点
正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。
技术指标
正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
其他说明

                                    

完成人信息

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