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真空阴极弧离子镀及DLC超硬薄膜制备技术

成果编号
02077
完成单位
中国科学院力学研究所
完成时间
2012年
成熟程度
试生产阶段
价格
面议
服务产业领域
新材料
单位类别
中国科学院系统院所
关注
科技计划 成果形式
新技术、新工艺
合作方式 参加活动
技术转让、技术开发
专利情况
未申请专利

成果简介

综合介绍
该项目引入高压脉冲辉光放电技术,将真空阴极弧和中频磁控溅射等多种镀膜技术相结合。
创新要点
类金刚石碳(DLC)膜是一种光滑致密、高硬度、高电阻率、高导热率、良好的红外透过性、高化学稳定性、低摩擦系数高耐磨性的新型超硬薄膜。
技术指标
可研究开发单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、碳膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。
其他说明
TiN、TiC、TiCN、TiAlN等硬质薄膜已经在工具、模具、装饰等行业得到日益广泛的应用。

完成人信息

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附件

序号 文件名称
1 科技成果登记表简介.doc